2

Planarization of dielectrics used in the manufacture of very-large-scale integrated circuits

Année:
1990
Langue:
english
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PDF, 381 KB
english, 1990
5

Characteristics of copper films produced via atomic layer deposition

Année:
2002
Langue:
english
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PDF, 162 KB
english, 2002
11

Structure analysis of CVD graphene films based on HRTEM contrast simulations

Année:
2011
Langue:
english
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PDF, 1.06 MB
english, 2011
19

Electronic properties of metal-arene functionalized graphene

Année:
2011
Langue:
english
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PDF, 702 KB
english, 2011
24

Remote plasma assisted growth of graphene films

Année:
2010
Langue:
english
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PDF, 473 KB
english, 2010
25

Frequency multiplication in nanowires

Année:
2011
Langue:
english
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PDF, 515 KB
english, 2011
29

Guidelines for Authors

Année:
1986
Langue:
english
Fichier:
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english, 1986
31

Atomic layer deposition of MoS 2 thin films

Année:
2015
Langue:
english
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PDF, 760 KB
english, 2015
32

Engineering of Graphene Band Structure by Haptic Functionalization

Année:
2012
Langue:
english
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PDF, 12.97 MB
english, 2012
34

Growth of multiple WS2/SnS layered semiconductor heterojunctions

Année:
2015
Langue:
english
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english, 2015
44

Large area growth of layered WSe 2 films

Année:
2016
Langue:
english
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PDF, 2.92 MB
english, 2016
48

Atomic Layer Growth of InSe and Sb2Se3 Layered Semiconductors and Their Heterostructure

Année:
2017
Langue:
english
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PDF, 3.09 MB
english, 2017
49

Carrier conductance in 2D WSe 2 films

Année:
2018
Langue:
english
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PDF, 1.37 MB
english, 2018